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第二屆國際背光技術(shù)(上海)展覽會

　　The 2nd International Backlight Technology (Shanghai)Expo

　　展覽時間：2013年5月22日至24日

　　展會地點：上海世博展覽館

　　主辦單位：正亞展覽機構(gòu)

　　組織單位：上海富亞展覽有限公司、廣州正亞展覽有限公司、臺灣光電半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會

　　同期舉辦：第九屆國際模切(上海)展覽會

　　展會網(wǎng)址：blu.zyexpo.com 

　　[亞洲唯一背光技術(shù)展]　   

　　在顯示技術(shù)不斷進步的今天，背光技術(shù)的高性能(高亮度化、輕薄化、高效節(jié)能等)已成當今龐大顯示行業(yè)主流應用技術(shù)。從大中小尺寸的顯示產(chǎn)品如手機、PDA、數(shù)字相機(DSC)、車載顯示器、液晶顯示器、液晶電視等已普及應用，再到超薄廣告燈箱行業(yè)的背光技術(shù)延伸應用，無不顯現(xiàn)背光技術(shù)的魅力身影。

　　"第二屆國際背光技術(shù)(上海)展覽會，簡稱「APFE2013上海展」，將于2013年5月22-24日在上海世博展覽館舉辦，是亞洲唯一背光技術(shù)展，將面向顯示背光模組，超薄燈箱等行業(yè)全方位面展示導光板、光學膜、光源、組裝、檢測及加工技術(shù)的專業(yè)大展，同期與“第九屆國際模切展（全球最大）”隆重開展，涉及展覽總規(guī)模達18,000平方米，600多家展商預計將有來自國內(nèi)外超過20,000人次的專業(yè)觀眾到場參觀。2013年5月的上海，我們盛情邀請您以參展、參觀、采購、交流合作等各種形式來到[APFE2013]！

　　[展會背景]

　　上屆「背光技術(shù)展」已于上海世博展覽館成功舉辦，成為全球首創(chuàng)的背光技術(shù)展，得到國內(nèi)外背光技術(shù)領(lǐng)域品牌企業(yè)大力支持，如英國TEKNEK、韓國樹研光學、德國亞德科、美國輻深、韓國FILEMAX、PROTEM、HI-LAND、WELL、SEKISUI、FUJI SHOKO、臺灣郡威、日本MEGARO、香港君凌、岱棱、佑順發(fā)、豪晶、旌陽、SYSCO、東芝、康得新、布雷德、菲斯特、民特英、賽德、德龍、中電二所、福和達、富鑫林等上百家企業(yè)參展。大會共接待來自終端電子制造商、手機、電腦、家電、面板、背光模組、顯示模塊、導光板、光學膜材料商、精密模切、超薄燈箱等相關(guān)光電顯示制造商將近20,000名觀眾到場參觀，成為光電顯示行業(yè)設(shè)計開發(fā)、貿(mào)易合作、產(chǎn)品采購和技術(shù)交流的高效對接平臺。

　　一、展覽范圍

　　◆背光部件/材料

　　◆背光技術(shù)設(shè)備

　　◆化工產(chǎn)品：

　　◆其他：背光源驅(qū)動IC,設(shè)計與解決方案等科研機構(gòu)及背光模組、超薄廣告燈箱。

　　二、展位規(guī)格及參展收費標準

　　1、國際標準展位：9m2（3m×3m）分設(shè)T 區(qū)（國際區(qū)），A 區(qū)（國內(nèi)區(qū)）；

　　A 區(qū)：國內(nèi)企業(yè)RMB 9800/展位 ：國內(nèi)企業(yè)RMB 1000/m2/展期光地

　　T 區(qū)：國際展區(qū)USD 2000/展位 ：國際展區(qū)USD 200/m2/展期光地

　　[APFE2013]-聯(lián)絡(luò)機構(gòu)：

　　正亞展覽有限公司（背光展始創(chuàng)者）

　　電話：021-33518235/6/7轉(zhuǎn)206

　　傳真：021-33518235/6/7轉(zhuǎn)226 

　　聯(lián)系人：慕宇 15221822855 

　　E-mail:zyexpo@vip.126.com

　　網(wǎng)址：blu.zyexpo.com