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　　新諾科技(中山)有限公司成立于2004年，是一家私營企業，公司主要是以研發和生產激光動態無掩模光刻設備、激光無掩模像素熱轉印設備、激光無掩模雙面曝光設備、超大尺寸FPD無掩模曝光設備及超快皮秒級激光封裝焊接設備。

　　新諾公司及其海外關聯公司Aiscent Technologies （Canada）, Inc.（www.aiscenttech.com) 是由一組長期在北美、日本和中國等地從事激光技術和應用研發的資深科學家和擅長高科技企業管理的團隊來經營，公司曾經重組了一家美國/日本從事激光直接光刻設備研發和生產的在中國的分公司，配合公司已有的大功率藍紫激光技術、大功率和皮秒光纖激光器技術，不斷開拓其激光直寫技術的應用范圍。

　　新諾科技以LDI激光直接成像技術和光纖激光技術，實現了激光無掩膜光刻、熱轉印及超快激光封裝技術的在半導體行業的廣泛應用，突破了原有的電子、生物及微精細加工領域的工程瓶頸。整個光刻系統是由我公司研發的藍紫半導體激光器耦合成的大功率光刻激光光源、DMD成像系統、自己研發生產的微透鏡系統、高速（25Gb/s）的數據傳輸硬件系統 、具有數據轉換、變形補償、掃描控制的軟件系統以及高精度的移動平臺組成。其工作原理是：由計算機產生的要光刻的圖形，在DMD芯片上顯示出來，形成了數字掩膜板圖形，再經微透鏡陣列系統壓縮后，產生了小于1um的光斑陣列，該光斑陣列圖形通過光學系統成像在要光刻的基板上，通過高精度的移動平臺對基板形成掃描曝光。這種無掩模光刻方式節省了半導體工藝中昂貴的掩模板，提高了新產品的開發速度，節約了成本。由于應用了掃描技術，該設備也可用于器件的批量生產線中。該設備可廣泛用于LCD、OLED等FPD平板顯示領域、高精度多層PCB板的加工生產，它無需菲林，能自動補償板材變形、高精度對位等。其多光學引擎頭同時曝光掃描技術可解決10代線以上的超大屏幕FPD的光刻問題。其雙面曝光技術集中解決了高精度PCB板生產中的對位、變形、高速等技術難點，開創了LDI在PCB領域里應用的新時代。該光刻技術也大量用于CTP系統、MEMS及半導體器件的研發生產中。公司利用自主研發飽和吸收光纖技術開發出了超快皮秒級光纖激光器，該激光器可廣泛用于LCD、OLED等FPD領域的密封焊接封裝中，這種技術克服了現有激光封裝焊接部分熱影響區域大、局部應力變形大、難以控制及成品率低等缺點。是半導體封裝行業里的新產品和新技術。無掩膜光刻設備和皮秒光纖激光技術是下一代半導體光刻設備、封裝設備的重點發展方向，該技術的成功應用是國家半導體裝備行業的重大突破。