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    PVD和PECVD技術(shù)為具有高刷新率的超高分辨率顯示生產(chǎn)更快的晶體管 • 新一代系統(tǒng)將提高使用大尺寸玻璃的制造成本效益

    2012年10月31日，應(yīng)用材料公司宣布推出全新的PVD^*和PECVD^*技術(shù)，用于制造下一世代的超高分辨率(UHD)電視以及移動設(shè)備的高像素密度屏幕。實現(xiàn)這一重大變革的關(guān)鍵在于這兩項技術(shù)使用了全新的金屬氧化物和低溫多晶硅材料，從而生產(chǎn)出更快、更小的薄膜晶體管(TFT)，用于LCD和OLED技術(shù)。Applied AKT-PiVot™ PVD和Applied AKT-PX PECVD薄膜沉積系統(tǒng)為顯示制造商提供了高性能和經(jīng)濟(jì)有效的解決方案，幫助其實現(xiàn)這些先進(jìn)材料在規(guī)模化生產(chǎn)中的應(yīng)用。

    應(yīng)用材料公司集團(tuán)副總裁兼顯示事業(yè)部總經(jīng)理Tom Edman表示：“在薄膜晶體管技術(shù)發(fā)展的推動下，顯示行業(yè)正在經(jīng)歷著過去20年以來最重大的技術(shù)變革。應(yīng)用材料公司成功開發(fā)出了行之有效的系統(tǒng)組合，幫助客戶在這些新型薄膜的應(yīng)用方面實現(xiàn)技術(shù)飛躍。客戶們已經(jīng)在我們的系統(tǒng)上取得了卓越的成果，我們也已經(jīng)收到來自各大顯示制造企業(yè)的多份訂單。”

    對于基于金屬氧化物的薄膜晶體管，應(yīng)用材料公司的AKT-PiVot PVD系統(tǒng)采用專有旋轉(zhuǎn)陰極技術(shù)沉積具有高電子遷移率的新型材料銦鎵鋅氧化物（IGZO），以形成晶體管通道。PiVot系統(tǒng)為顯示行業(yè)帶來了可靠的IGZO解決方案，能夠克服有礙顯示質(zhì)量的“霧化效應(yīng)”。正是這個問題妨礙了金屬氧化物技術(shù)在液晶顯示方面的廣泛應(yīng)用。此外，通過PiVot系統(tǒng)沉積的IGZO薄膜還具有突出的薄膜晶體管穩(wěn)定性，有望為OLED提供金屬氧化物背板，從而大幅降低成本，為制造出色彩亮麗、經(jīng)濟(jì)實惠的大尺寸OLED電視創(chuàng)造條件。

    雖然低溫多晶硅技術(shù)已被證實是制造移動LCD和OLED設(shè)備最高分辨率顯示的有效方法，但在規(guī)模效益和單位面積生產(chǎn)成本方面卻不盡人意。基于應(yīng)用材料公司AKT-PX PECVD系列系統(tǒng)的全新技術(shù)延伸，能夠在1.6至5.7平方米的玻璃基板上沉積出高度均勻的低溫多晶硅薄膜。這類尺寸更大的基板使顯示制造商可以大幅提高產(chǎn)量、降低成本，實現(xiàn)規(guī)模經(jīng)濟(jì)效益，把大尺寸LCD電視帶給全球數(shù)億消費者。該系統(tǒng)也有助于加快移動設(shè)備和電視領(lǐng)域低溫多晶硅技術(shù)向更大屏幕尺寸的轉(zhuǎn)型。